[发明专利]一种三维ZnO阵列聚吡咯分子印迹电化学传感器及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201811212334.X 申请日: 2018-10-14
公开(公告)号: CN111044595A 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 许鑫华;张茜;贾丽敏 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G01N27/48 分类号: G01N27/48;G01N27/30
代理公司: 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙) 12214 代理人: 王秀奎
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开一种三维ZnO阵列聚吡咯分子印迹电化学传感器及其制备方法和应用,利用以金为导电基底,以ZnO为基础材料,在导电基底上直接生长ZnO三维阵列结构,并通过电聚合方法,以对氨基苯磺酰胺为模板分子,制备分子印迹聚吡咯纳米阵列,结合电化学工作站构建基于金基底的ZnO阵列分子印迹传感器。通过ZnO三维纳米阵列结构的构建,增加电极材料的比表面积及活性位点,从而提高检测灵敏度,降低检测限。
搜索关键词: 一种 三维 zno 阵列 吡咯 分子 印迹 电化学传感器 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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