[发明专利]判断缺陷叠图聚集的方法及其系统在审
| 申请号： | 201811212402.2 | 申请日： | 2018-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN109522931A | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 高嵩 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G06K9/62 | 分类号： | G06K9/62 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开一种判断缺陷叠图聚集的方法及其系统，通过自动化的方法筛选出缺陷叠图中的缺陷群，判断缺陷叠图中是否存在缺陷数目大于第一预设值的缺陷群，从而判断缺陷叠图是否存在聚集，相对于人工观察缺陷叠图是否聚集，本申请发现缺陷叠图聚集现象的速度更快且更准确。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷群 预设 申请 自动化 筛选 观察 发现 | ||
【主权项】：
1.一种判断缺陷叠图聚集的方法，其特征在于，所述判断缺陷叠图聚集的方法包括如下步骤：筛选出缺陷叠图中的缺陷群，所述缺陷叠图是将具有相同缺陷的批次产品的缺陷进行叠图得到的，所述缺陷群中有至少两个所述相同缺陷；若所述缺陷叠图中存在所述相同缺陷的数目大于第一预设值的缺陷群，则判断所述缺陷叠图为聚集；若所述缺陷叠图中不存在所述相同缺陷的数目大于所述第一预设值的缺陷群，则判断所述缺陷叠图为未聚集。
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