[发明专利]一种连续进行晶界扩散和热处理的装置以及方法有效
申请号: | 201811215366.5 | 申请日: | 2018-10-18 |
公开(公告)号: | CN109735687B | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 王清江;廖宗博;林玉麟;黄长庚 | 申请(专利权)人: | 福建省长汀金龙稀土有限公司 |
主分类号: | C21D1/00 | 分类号: | C21D1/00;C21D9/00;C22C38/06;C22C38/10;C22C38/12;C22C38/16;H01F1/057;H01F41/02 |
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地址: | 366300 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明公开了一种连续进行晶界扩散和热处理的装置以及方法,其特征在于:所述合金工件或金属工件连同扩散源设置在相对独立的处理箱内,所述装置包括依序设置的晶界扩散室、第一冷却室、热处理室、第二冷却室、以及设置在各个室之间的用以运送所述处理箱的运送系统,所述第一冷却室和所述第二冷却室均采用风冷系统,所述第一冷却室的冷却风温度在25℃以上、并与所述晶界扩散室的晶界扩散温度至少相差550℃,所述第二冷却室的冷却风温度在25℃以上、并与所述热处理室的热处理温度至少相差300℃,所述冷却室的压力50kPa‑100kPa。本发明提供的装置可以提升冷却速率和生产效率,提高产品一致性。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 进行 扩散 热处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种连续进行晶界扩散和热处理的装置,其特征在于:所述合金工件或金属工件连同扩散源设置在相对独立的处理箱内,所述装置包括通过气密装置依序设置的晶界扩散室、第一冷却室、热处理室、第二冷却室、以及设置在各个室之间的用以运送所述处理箱的运送系统,所述第一冷却室和所述第二冷却室均采用风冷系统,所述第一冷却室的冷却风温度在25℃以上、并与所述晶界扩散室的晶界扩散温度至少相差550℃,所述第二冷却室的冷却风温度在25℃以上、并与所述热处理室的热处理温度至少相差300℃,所述冷却室的压力50kPa‑100kPa。
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