[发明专利]一种大焦斑共聚焦X射线光谱分析装置有效
申请号: | 201811218679.6 | 申请日: | 2018-10-19 |
公开(公告)号: | CN109187589B | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 孙学鹏;孙天希;刘志国 | 申请(专利权)人: | 北京市辐射中心;北京师范大学 |
主分类号: | G01N23/00 | 分类号: | G01N23/00;G01N23/20025;G01N23/2204 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 夏艳 |
地址: | 100875 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种大焦斑共聚焦X射线光谱分析装置,该装置包含:入射光路、探测光路、样品调节架和光谱数据分析终端。入射光路和探测光路的重合区域构成探测微元;样品调节架用于放置待检测样品,并调节待检测样品与探测微元接触的位置与接触面积大小;光谱数据分析终端与探测光路和样品调节架均通过总线连接,用于接收探测光路获得的射线光谱数据和调控样品调节架。入射光路包含:X射线光源和毛细管X射线平行束透镜。探测光路包含:毛细管X射线准直器和X射线探测器。本发明的装置能够调节工作距离和角度,以接收不同角度样品的光谱信息。 | ||
搜索关键词: | 一种 大焦斑共 聚焦 射线 光谱分析 装置 | ||
【主权项】:
1.一种大焦斑共聚焦X射线光谱分析装置,其特征在于,该装置包含:X射线光源、入射光路、探测光路、样品调节架(5)和光谱数据分析终端(9);其中,所述X射线光源(1)用于发射X射线;所述入射光路和探测光路的重合区域构成探测微元;所述样品调节架(5)用于放置待检测样品,并调节待检测样品与所述探测微元接触的位置与接触面积大小;所述光谱数据分析终端(9)与所述探测光路和样品调节架(5)均通过总线连接,用于调控所述的样品调节架(5),以及接收所述探测光路获得的射线光谱数据并对光谱数据进行分析处理;其中,所述入射光路包含:毛细管X射线平行束透镜(3),其入口端与所述X射线光源(1)相对应,该X射线光源(1)发射的X射线从其入口端进入经其出口端射出至所述样品调节架(5)上的待检测样品;其中,所述探测光路包含:毛细管X射线准直器(7),其用于接收所述X射线照射待检测样品产生的次级射线中某一角度的准平次级射线;以及X射线探测器(8),其用于探测经所述毛细管X射线准直器(7)的准平次级射线,并将该准平次级射线的光谱数据发送给所述的光谱数据分析终端(9);其中,所述毛细管X射线平行束透镜(3)与所述毛细管X射线准直器(7)的光束之间的夹角θ为5°~180°;所述毛细管X射线平行束透镜(3)入口端的直径小于出口端的直径;所述的探测微元形成的焦斑直径为5~60mm,该焦斑直径d由所述毛细管X射线平行束透镜(3)的入口端直径Din和毛细管X射线准直器(7)的直径D共同决定,其大小为:
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