[发明专利]适用于太赫兹频段高反射材料介电参数测量装置及方法有效
申请号: | 201811219803.0 | 申请日: | 2018-10-19 |
公开(公告)号: | CN109188105B | 公开(公告)日: | 2020-10-13 |
发明(设计)人: | 蔡禾;张景;孙金海;郑岩;张旭涛;徐颖 | 申请(专利权)人: | 北京环境特性研究所 |
主分类号: | G01R27/26 | 分类号: | G01R27/26 |
代理公司: | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人: | 周娇娇 |
地址: | 100854*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种适用于太赫兹频段高反射材料介电参数测量装置及方法,该装置包括参考板、透射测量模块、反射测量模块和计算模块;该方法采用部分透射、部分反射的材料作为参考板,通过对参考板的透射测量,获得其复折射率,并推算其在设定入射角度下的反射率;分别测量参考板和待测材料板在同一设定入射角度下反射的太赫兹波能量,并结合推算的参考板的反射率,计算待测材料板的反射率;根据测量频段待测材料板的反射率及外推反射率,计算待测材料板引起的相移,从而得到待测材料板的复介电参数。该装置及方法基于光纤耦合的太赫兹时域光谱技术,特别适用于太赫兹频段高反射材料的介电参数的测量,有助于提高反射率、介电参数测量的准确度。 | ||
搜索关键词: | 适用于 赫兹 频段 反射 材料 参数 测量 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京环境特性研究所,未经北京环境特性研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811219803.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。