[发明专利]用于分析测量介质的测量设备

摘要

本发明涉及用于分析测量介质的测量设备，包括：探头壳体；辐射源；耦合和去耦光学器件，具有布置在探头壳体中的至少一个测量窗口，并且将辐射源的辐射耦合到测量区域中，测量区域布置在探头壳体外部并且测量介质位于测量区域中，并且将测量辐射从测量区域去耦；接收装置，通过耦合和去耦光学器件检测从测量区域去耦的测量辐射并且从检测到的测量辐射生成输出数据；至少一个附加物理或化学传感器，集成在探头壳体中并且检测测量介质的被测变量并且将被测变量的值输出作为测量信号；和电子测量单元，连接到接收装置并且收集和处理接收装置的输出数据，其中电子测量单元连接到附加物理或化学传感器并且收集和处理附加物理或化学传感器的测量信号。

主权项

1.一种用于分析测量介质的测量设备，所述测量设备包括：‑探头壳体；‑辐射源；‑耦合和去耦光学器件，所述耦合和去耦光学器件具有布置在所述探头壳体中的至少一个测量窗口，并且被配置成将所述辐射源的辐射耦合到测量区域中，所述测量区域布置在所述探头壳体外部并且所述测量介质位于所述测量区域中，并且被配置成将所述测量辐射从所述测量区域去耦；‑接收装置，所述接收装置被配置成通过所述耦合和去耦光学器件检测从所述测量区域去耦的测量辐射并且从所检测到的测量辐射生成输出数据；‑至少一个附加物理或化学传感器，所述至少一个附加物理或化学传感器集成在所述探头壳体中并且被设计成检测所述测量介质的被测变量并且将所述被测变量的值输出作为测量信号；和‑电子测量单元，所述电子测量单元连接到所述接收装置并且被配置成收集和处理所述接收装置的所述输出数据，并且其中所述电子测量单元连接到所述附加物理或化学传感器，并且被配置成收集和处理所述附加物理或化学传感器的所述测量信号。