[发明专利]一种滤光片镀膜方法

摘要

本发明提供一种滤光片镀膜工艺，该滤光片镀膜工艺在对梯形滤光片进行镀膜时，采用两次镀膜的方式，中间层镀膜时中间间隔一段时间，这样再间隔的这段时间内可起到对已完成镀膜的膜系去应力作用，从而可达到防止膜层破裂、脱落的情况出现，同时该滤光片在镀膜时每个阶段都采用不同的沉积气压和沉积速率，这样也能在一定程度上起到去应力的作用，进而了有效提高滤光片的镀膜质量和成品率，降低企业生产成本，提高经济效益。

主权项

1.一种滤光片镀膜工艺，其特征在于，其包括如下步骤：1）滤光片研磨：将大块的滤光片基板切割成小片的基片，对基片进行研磨，将基片研磨成直角梯形结构；2）滤光片清洗：使用超声波设备对滤光片进行清洗；3）滤光片镀膜：将滤光片置于镀膜伞内在镀膜机内进行镀膜，镀膜机采用蒸发镀膜方式在直角梯形结构基片的斜面上进行沉积镀膜，该滤光片镀膜的膜系结构为LHLHL结构，其中H表示TiO2层、L层为SiO2层；当镀膜至该膜系结构的中间SiO2层厚度的1/2‑3/4时，停止镀膜一段时间，然后再继续镀膜，直至整个膜系镀膜完成。