[发明专利]具有微观定向结构的铜基触头材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811227314.X 申请日: 2018-10-22
公开(公告)号: CN109482885B 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 刘增乾;谈国旗;张哲峰 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: B22F3/22 分类号: B22F3/22;B22F3/26;B22F3/10;C22C1/05;H01H1/025
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 张志伟
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于金属基复合材料领域,具体为一种具有微观定向结构的铜基触头材料及其制备方法。该材料由质量分数为5%~85%的基体相(铜或铜合金)和第二相(铬、铬合金、碳化钨或碳化硅)复合组成,并且微观上两相沿制备过程的冷冻方向相间排列。该材料通过浆料配制、冷冻铸造和真空冷冻干燥、去有机质和骨架烧结以及骨架熔渗的工艺流程制备而成,材料中两相的含量通过调节浆料配比加以控制。本发明的铜基触头材料具有良好的塑性和韧性以及高温力学性能,特别是沿微观结构方向表现出优异的导电和导热性能,因此有望显著提升触头的使用效果,减少能量消耗。
搜索关键词: 具有 微观 定向 结构 铜基触头 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种具有微观定向结构的铜基触头材料,其特征在于,所述的铜基触头材料由基体相和第二相复合组成,其中基体相为铜或铜合金,第二相为铬、铬合金、碳化钨或碳化硅,以质量百分数计,基体相含量为5%~85%;所述的铜基触头材料微观上具有定向结构,具体表现为基体相和第二相沿材料制备过程的冷冻方向相间排列,基体相片层厚度为0.1μm~350μm,片层间距为0.2μm~200μm。
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