[发明专利]一种旱地矮化中间砧苹果树深坑浅栽方法在审
| 申请号： | 201811234206.5 | 申请日： | 2018-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN109220472A | 公开（公告）日： | 2019-01-18 |
| 发明（设计）人： | 任军民;袁景军 | 申请（专利权）人： | 任军民 |
| 主分类号： | A01G17/00 | 分类号： | A01G17/00 |
| 代理公司： | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人： | 董芙蓉 |
| 地址： | 744400 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于果树栽培技术领域，公开了一种旱地矮化中间砧苹果树深坑浅栽方法,苗木栽植深度为矮化中间砧入土4/5，矮砧外露5cm；依据定植沟土壤下沉程度，留出苗木下陷2cm～3cm；矮化砧外露中，管上不管下，矮砧上部外露一致，在一个水平线上；矮化中间砧推迟一年生根，第一年利用原基砧长好树势，翌年春季将土回填要求的部位。本发明使苗木与苗圃地生长保持了一致，定植后土壤与地上温度相近，生长协调，排除了传统深栽上下水分与营养失调的严重问题；树下形成的锅底形大坑，有利接纳降水，薄膜覆盖造成水分能进不能出，减少蒸发，相当幼树多次灌溉，解决了黄土高原缺水干旱问题，提高了有效水分的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 矮化中间砧 外露 苹果树 深坑 旱地 苗木 果树栽培技术 薄膜覆盖 干旱问题 苗木栽植 生长 定植沟 锅底形 苗圃地 回填 土壤 下陷 矮化 大坑 定植 树势 幼树 原基 黄土高原 失调 下沉 蒸发 接纳 灌溉 缺水 降水 协调 | ||
【主权项】：
1.一种旱地矮化中间砧苹果树深坑浅栽方法，其特征在于，所述旱地矮化中间砧苹果树深坑浅栽方法包括：苗木栽植深度为矮化中间砧入土4/5，矮砧外露5cm；依据定植沟土壤下沉程度，留出苗木下陷2cm～3cm；矮化砧外露中，管上不管下，矮砧上部外露一致，在一个水平线上；矮化中间砧推迟一年生根，第一年利用原基砧长好树势，翌年春季将土回填要求的部位。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于任军民，未经任军民许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811234206.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种利用构树绿化裸露坡面的方法
- 下一篇：一种佛手的种植方法
