[发明专利]复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备在审
| 申请号： | 201811234366.X | 申请日： | 2018-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN109439282A | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 周群飞;杨水莲 | 申请（专利权）人： | 蓝思科技（长沙）有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 葛松生 |
| 地址： | 410100 湖南省长沙*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种复合纳米磨料、抛光液及其制备方法、玻璃晶片和电子设备，涉及磨料技术领域，所述复合纳米磨料包括纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末，两者的质量比为(3‑6)：(2‑5)；其中，纳米氧化铈粉末的粒径为80‑200nm，纳米氧化铝粉末的粒径为100‑300nm，缓解了以微米级氧化铈或微米级氧化铝为磨料的抛光液无法满足玻璃晶片低粗糙度要求的技术问题，本发明提供的复合纳米磨料，通过纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末相互协同，对玻璃晶片进行抛光时，使得玻璃晶片表面的粗糙度显著降低，不仅能够满足玻璃晶片的表观质量要求，而且提高了抛光效率，降低了抛光成本。 | ||
| 搜索关键词： | 玻璃晶片 复合纳米磨料 纳米氧化铝粉末 纳米氧化铈 抛光液 磨料 电子设备 粒径 制备 微米级氧化铝 低粗糙度 抛光成本 抛光效率 抛光 粗糙度 微米级 氧化铈 质量比 协同 缓解 | ||
【主权项】：
1.一种复合纳米磨料，其特征在于，包括纳米氧化铈粉末和纳米氧化铝粉末，两者的质量比为(3‑6)：(2‑5)；其中，纳米氧化铈粉末的粒径为80‑200nm，纳米氧化铝粉末的粒径为100‑300nm。
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