[发明专利]N型双面太阳电池及其制备方法在审
申请号: | 201811236764.5 | 申请日: | 2018-10-23 |
公开(公告)号: | CN109346549A | 公开(公告)日: | 2019-02-15 |
发明(设计)人: | 张松;梁小静;陶智华;郑飞;刘慎思 | 申请(专利权)人: | 上海神舟新能源发展有限公司 |
主分类号: | H01L31/068 | 分类号: | H01L31/068;H01L31/18 |
代理公司: | 上海航天局专利中心 31107 | 代理人: | 许丽 |
地址: | 201112 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供的N型双面太阳电池,电池正电极一侧依次为:电池正电极、氮化硅层、P型掺杂PolySi多晶硅层、第一二氧化硅钝化层、N型硅衬底;电池负电极一侧依次为:电池负电极、n型区域掺杂PolySi多晶硅层、本征PolySi多晶硅层、第二二氧化硅钝化层、N型硅衬底。还提供了N型双面太阳电池的制备方法。本发明提供的N型双面太阳电池具备更低的界面态密度,而P型和N型掺杂层具备更可控的掺杂浓度,拥有更高的填充因子。N型双面太阳电池的制备方法,采用LPCVD制备双面无绕镀TOPCon结构双面电池,同时运用掩膜,激光开槽和激光掺杂等工艺方式实现双面电池结构,并最大限度的保留了硅衬底的少数载流子寿命。 | ||
搜索关键词: | 双面太阳电池 制备 多晶硅层 二氧化硅钝化层 电池负电极 双面电池 正电极 衬底 掺杂 电池 少数载流子寿命 界面态密度 氮化硅层 工艺方式 激光掺杂 激光开槽 填充因子 硅衬底 可控的 本征 掩膜 保留 | ||
【主权项】:
1.一种N型双面太阳电池,其特征在于,电池正电极一侧依次为:电池正电极、氮化硅层、P型掺杂PolySi多晶硅层、第一二氧化硅钝化层、N型硅衬底;电池负电极一侧依次为:电池负电极、n型区域掺杂PolySi多晶硅层、本征PolySi多晶硅层、第二二氧化硅钝化层、N型硅衬底;其中,电池正电极穿过第一二氧化硅钝化层与P型掺杂PolySi多晶硅层形成欧姆接触,电池负电极穿过第二二氧化硅钝化层与n型区域掺杂PolySi多晶硅层形成欧姆接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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