[发明专利]N型双面太阳电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811236764.5 申请日: 2018-10-23
公开(公告)号: CN109346549A 公开(公告)日: 2019-02-15
发明(设计)人: 张松;梁小静;陶智华;郑飞;刘慎思 申请(专利权)人: 上海神舟新能源发展有限公司
主分类号: H01L31/068 分类号: H01L31/068;H01L31/18
代理公司: 上海航天局专利中心 31107 代理人: 许丽
地址: 201112 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供的N型双面太阳电池,电池正电极一侧依次为:电池正电极、氮化硅层、P型掺杂PolySi多晶硅层、第一二氧化硅钝化层、N型硅衬底;电池负电极一侧依次为:电池负电极、n型区域掺杂PolySi多晶硅层、本征PolySi多晶硅层、第二二氧化硅钝化层、N型硅衬底。还提供了N型双面太阳电池的制备方法。本发明提供的N型双面太阳电池具备更低的界面态密度,而P型和N型掺杂层具备更可控的掺杂浓度,拥有更高的填充因子。N型双面太阳电池的制备方法,采用LPCVD制备双面无绕镀TOPCon结构双面电池,同时运用掩膜,激光开槽和激光掺杂等工艺方式实现双面电池结构,并最大限度的保留了硅衬底的少数载流子寿命。
搜索关键词: 双面太阳电池 制备 多晶硅层 二氧化硅钝化层 电池负电极 双面电池 正电极 衬底 掺杂 电池 少数载流子寿命 界面态密度 氮化硅层 工艺方式 激光掺杂 激光开槽 填充因子 硅衬底 可控的 本征 掩膜 保留
【主权项】:
1.一种N型双面太阳电池,其特征在于,电池正电极一侧依次为:电池正电极、氮化硅层、P型掺杂PolySi多晶硅层、第一二氧化硅钝化层、N型硅衬底;电池负电极一侧依次为:电池负电极、n型区域掺杂PolySi多晶硅层、本征PolySi多晶硅层、第二二氧化硅钝化层、N型硅衬底;其中,电池正电极穿过第一二氧化硅钝化层与P型掺杂PolySi多晶硅层形成欧姆接触,电池负电极穿过第二二氧化硅钝化层与n型区域掺杂PolySi多晶硅层形成欧姆接触。
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