[发明专利]一种亚波长双光斑分裂聚焦微纳结构有效
| 申请号： | 201811237909.3 | 申请日： | 2018-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN109375299B | 公开（公告）日： | 2020-05-26 |
| 发明（设计）人： | 李艳秋;郭哲 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 李微微;仇蕾安 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种本发明的亚波长双光斑分裂聚焦微纳结构，包括基底以及基底上的银膜；银膜上分布有周期性结构阵列；每个结构包括对银膜进行刻蚀形成的圆形凹槽，以及保留在圆形凹槽中心区域的椭圆环状银膜；其中，圆形凹槽和椭圆环状银膜的尺寸均为纳米量级；在合适波长下，激发表面电场服从理论计算分布，能够在光学近场区域产生双光斑，光斑尺寸处于亚波长量级，形状呈理想圆形，具有良好的分裂聚焦特性；并且本发明聚焦结构本对工作方位角不敏感，在0°至80°取向方位角范围内均能保持良好的分裂聚焦效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 波长 光斑 分裂 聚焦 结构 | ||
【主权项】：
1.一种亚波长双光斑分裂聚焦微纳结构，其特征在于，包括基底以及基底上的银膜；银膜上分布有周期性结构阵列；每个结构包括对银膜进行刻蚀形成的圆形凹槽，以及保留在圆形凹槽中心区域的椭圆环状银膜；其中，圆形凹槽和椭圆环状银膜的尺寸均为纳米量级。
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