[发明专利]一种亚波长双光斑分裂聚焦微纳结构有效

专利信息
申请号: 201811237909.3 申请日: 2018-10-23
公开(公告)号: CN109375299B 公开(公告)日: 2020-05-26
发明(设计)人: 李艳秋;郭哲 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 李微微;仇蕾安
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种本发明的亚波长双光斑分裂聚焦微纳结构,包括基底以及基底上的银膜;银膜上分布有周期性结构阵列;每个结构包括对银膜进行刻蚀形成的圆形凹槽,以及保留在圆形凹槽中心区域的椭圆环状银膜;其中,圆形凹槽和椭圆环状银膜的尺寸均为纳米量级;在合适波长下,激发表面电场服从理论计算分布,能够在光学近场区域产生双光斑,光斑尺寸处于亚波长量级,形状呈理想圆形,具有良好的分裂聚焦特性;并且本发明聚焦结构本对工作方位角不敏感,在0°至80°取向方位角范围内均能保持良好的分裂聚焦效果。
搜索关键词: 一种 波长 光斑 分裂 聚焦 结构
【主权项】:
1.一种亚波长双光斑分裂聚焦微纳结构,其特征在于,包括基底以及基底上的银膜;银膜上分布有周期性结构阵列;每个结构包括对银膜进行刻蚀形成的圆形凹槽,以及保留在圆形凹槽中心区域的椭圆环状银膜;其中,圆形凹槽和椭圆环状银膜的尺寸均为纳米量级。
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