[发明专利]硅基晶圆的分束激光切割方法有效

专利信息
申请号: 201811238799.2 申请日: 2018-10-23
公开(公告)号: CN109352184B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 詹苏庚;吴迪;彭立和;王红;丁锋 申请(专利权)人: 深圳赛意法微电子有限公司
主分类号: B23K26/38 分类号: B23K26/38;B23K26/402;B23K26/067;B23K26/02;B23K26/70
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 赵赛;蔡碧慧
地址: 518038 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开硅基晶圆的分束激光切割方法,其用于将所述硅基晶圆切割成独立的芯片,其特征在于,其包括以下步骤:预处理步骤;衍射分光步骤:用光栅装置(106)将单束激光(105)分成多束激光(108),并形成光束图案;分束切割步骤:使用所述样式激光切割刀对所述硅基晶圆进行切割;和后处理步骤。本发明达到了提高了晶圆切割速率、同时提升了晶圆的切割品质的技术效果。
搜索关键词: 硅基晶圆 激光 切割 方法
【主权项】:
1.硅基晶圆的分束激光切割方法,其用于将所述硅基晶圆(101)切割成独立的芯片(10),其特征在于,其包括以下步骤:预处理步骤:将所述硅基晶圆(101)进行预先处理,以适合进行激光切割操作;衍射分光步骤:用光栅装置(106)将单束激光(105)分成多束激光(108),并形成光束图案,称之为样式激光切割刀,其中,所述样式激光切割刀的激光束与切割道(118)所成夹角(143)、所述样式激光切割刀的激光束的频率、步进(117)、功率能够通过软件程序来确定;分束切割步骤:使用所述样式激光切割刀对所述硅基晶圆(101)进行切割,其包括以下子步骤:开槽子步骤:使用第一高频率、第一低功率、第一小步进、第一小角度的样式激光切割刀对所述切割道(118)进行开槽,形成激光切槽(120),其中,所述样式激光切割刀的光束数量为至少两束激光,所述样式激光切割刀的光束图案为双线光束簇(111),所述切割道(118)的宽度大于所述激光切槽(120)的宽度;深度切割子步骤:使用第二低频率、第二高功率、第二固定步进、第二零角度的样式激光切割刀对所述激光切槽(120)进行切割,并通过多次切割同一条所述激光切槽(120)将所述硅基晶圆(101)切透,形成激光通槽(220),其中,所述样式激光切割刀的光束数量为至少两束激光,所述样式激光切割刀的光束图案为线性光束簇(112);V型修边子步骤:使用第三较低频率、第三较高功率、第三小步进、第三小角度的样式激光切割刀对所述激光通槽(220)进行修边,其中,所述样式激光切割刀的光束数量为至少三束激光,所述样式激光切割刀的光束图案为箭头光束簇(115);后处理步骤:对分束切割步骤完成后的所述硅基晶圆(101)进行清理和/或保护。
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