[发明专利]用于指导外延工艺的方法及其系统有效

专利信息
申请号: 201811239495.8 申请日: 2018-10-23
公开(公告)号: CN109543228B 公开(公告)日: 2023-05-23
发明(设计)人: 王国斌;陈爱华;张伟;邢志刚;金小亮 申请(专利权)人: 中晟光电设备(上海)股份有限公司
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;H01L21/02;G06F119/18
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 高彦
地址: 201203 上海市浦东新区中国*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明通过获取与外延生长设备相关的一或多种硬件设计参数和外延工艺参数,将之构成参数值集合,并基于物理和/或化学理论原理,对参数间数学关系进行分析和判定提炼,辅以处理和存储的系统,用图谱的形式预测外延工艺的一种方法;其中,图谱通过多个参数组合取值区域分别描述反应腔的一或多个物理场、化学场、或者耦合场的多个变化形态。而且,图谱中包含用于示出生长有利的合理参数组合取值区域的界线。通过多条件集合的“面”技术而非单个条件的“点”技术,定出合理参数组合的外延工艺窗口。指导研发或生产工艺运行,避开不利于生长的区域,从而有效提高生长效率、降低有害沉积(保持腔体干净、延长维护周期),加快新型设备的成型和量产。
搜索关键词: 用于 指导 外延 工艺 方法 及其 系统
【主权项】:
1.一种用于指导外延工艺的方法,其特征在于,包括:获取根据与外延生长设备的反应腔相关的由一或多种硬件设计和/或工艺参数构成的参数组合的多组参数值集合;将所述多组参数值集合基于物理和/或化学理论原理所定义参数间数学关系进行分析,并利用分析结果形成图谱;其中,所述图谱通过多个参数组合取值区域分别描述反应腔的一或多个物理场、化学场、或者物理场和/或化学场间的耦合场的多个变化形态,且所述图谱中包含用于示出对外延生长设备的生长效率有利的合理参数组合取值区域的界线。
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