[发明专利]银合金靶材、薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201811240415.0 | 申请日： | 2018-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN109306414A | 公开（公告）日： | 2019-02-05 |
| 发明（设计）人： | 许冰文;陈支勇;国星;黄嵚甫 | 申请（专利权）人： | 吉晟光电(深圳)有限公司 |
| 主分类号： | C22C5/06 | 分类号： | C22C5/06;C23C14/22;C23C14/14;C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 518129 广东省深圳市宝安区西乡街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供银合金靶材、薄膜及其制备方法，该银合金靶材构成为AgxInyMzQn,其中铟的比例为8％≤y≤40％(原子比)，M为锡、金、铂、钯、铌、铑、钌中的至少一种元素，0≤z≤8％(原子比)，Q为稀土元素中的至少一种元素，0≤n≤3％(原子比),且银的含量x≥60％(原子比)。该银合金靶材可由磁控溅射镀，离子溅射镀、真空蒸镀或电子束蒸发制得具有优良耐热性、附着力、导电性、耐腐蚀性及抗硫化性的银合金薄膜，适用于反射电极膜、液晶显示器、光记录介质、有机发光二极管及电致变色等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 银合金靶材 原子比 制备 薄膜 附着力 有机发光二极管 耐热性 导电性 电子束蒸发 反射电极膜 光记录介质 液晶显示器 银合金薄膜 磁控溅射 电致变色 抗硫化性 离子溅射 耐腐蚀性 稀土元素 真空蒸镀 | ||
【主权项】：
1.银合金靶溅射靶材，其特征在于：银合金构成为AgxInyMzQn,其中铟的比例8％≤y≤40％(原子比)，M为锡、金、铂、钯、铌、铑、钌中的至少一种元素，0≤z≤8％(原子比)，且银的含量x≥60％(原子比)。
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