[发明专利]一种镀铝镭射材料的生产工艺及镭射材料

摘要

本发明公开了一种镀铝镭射材料的生产工艺，包括制作离型膜、制备设计涂布辊、制备信息层，将信息层经自主设计的涂布辊涂布在离型膜上以呈现镭射效果。本发明通过涂布工艺开发，直接通过二次涂布将镭射效果直接在涂布工序中呈现，减少了现有技术中制备镭射膜过程需要更换镭射版，膜压压印速度慢、生产效率低、成本高且工艺条件要求复杂的缺陷，仅通过二次涂布即可实现同样的效果，无需制作镍板，减少了膜压工艺，可提高效率，节约成本，同时，彻底隔绝因电镀镭射镍板造成的污染。

主权项

1.一种镀铝镭射材料的生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：①制备离型膜：在基膜上涂布一层可转移的离型层，烘干，制成离型膜；②设计涂布辊：按照光栅排列的方向设计间隔点阵图，将所述点阵图雕刻在辊上；③制备信息层：将光子晶体、相容性稀释剂及无机填料混合搅拌，让光子晶体与无机填料完全融合，制成信息层；④涂布信息层：将步骤③中制成的信息层经步骤②中设计的网辊涂布在步骤①中离型膜的离型层上，制成镭射材料；⑤将步骤④中制成的镭射材料设有离型层和信息层的一面或者镭射材料的两面进行真空镀铝；⑥根据需求分切制成成品。