[发明专利]一种二硼化铪-二氧化铪基高温太阳能吸收涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811244832.2 申请日: 2018-10-24
公开(公告)号: CN109338295B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 高祥虎;邱晓莉;刘刚 申请(专利权)人: 中国科学院兰州化学物理研究所
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/08;C23C14/16;C23C14/35;F24S70/20
代理公司: 甘肃省知识产权事务中心 62100 代理人: 孙惠娜
地址: 730000 *** 国省代码: 甘肃;62
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种二硼化铪‑二氧化铪基高温太阳能吸收涂层及其制备方法。所述的太阳能吸收涂层沉积在基底上,在基底上由底层到顶层形成三层膜结构,依次包括红外反射层、吸收层和减反射层,红外反射层为金属钨W或金属钼Mo,吸收层由二硼化铪和二氧化铪的复合陶瓷薄膜组成,减反射层由氧化铝组成。在大气质量因子AM1.5条件下,涂层吸收率≥0.91,发射率≤0.12。该涂层具有良好的热稳定性,可长期在500oC的真空环境下使用。本发明的涂层具有优异的光学性能和良好的热稳定性能,制备工艺简单,在太阳能中高温应用领域具有重要的应用前景。
搜索关键词: 一种 二硼化铪 氧化 高温 太阳能 吸收 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种二硼化铪‑二氧化铪基高温太阳能吸收涂层,其特征在于:该高温太阳能吸收涂层自基底表面向上依次为红外反射层、吸收层和减反射层,所述红外反射层为金属钨W或金属钼Mo, 所述吸收层为二硼化铪HfB2和二氧化铪HfO2的复合陶瓷,所述复合陶瓷中二硼化铪HfB2和二氧化铪HfO2均为非晶态,所述二硼化铪HfB2和二氧化铪HfO2的复合陶瓷吸收层是由直流磁控溅射二硼化铪HfB2所得,氧化铪HfO2由二硼化铪HfB2部分氧化得到,所述减反射层为氧化铝Al2O3。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院兰州化学物理研究所,未经中国科学院兰州化学物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811244832.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top