[发明专利]一种含硅共聚物纳米涂层及其制备方法有效
申请号: | 201811245258.2 | 申请日: | 2018-10-24 |
公开(公告)号: | CN109402611B | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 宗坚 | 申请(专利权)人: | 江苏菲沃泰纳米科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/517;C09D133/16;C09D127/12;C09D149/00;C09D5/08 |
代理公司: | 北京邦创至诚知识产权代理事务所(普通合伙) 11717 | 代理人: | 吴强 |
地址: | 214183 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种含硅共聚物纳米涂层及其制备方法,通过将基材暴露于共聚单体蒸汽氛围中,利用等离子体放电在基材表面引发共聚发生化学气相沉积反应而形成含硅共聚物纳米涂层;所述共聚单体蒸汽为汽化的共聚单体1中的一种或多种物质,和共聚单体2中的一种或多种;或者两种共聚单体的混合物。采用本申请方法制备的涂层,耐高低温性能优异,且即使在高低温急遽转变的环境中,仍能保持性能良好。 | ||
搜索关键词: | 一种 共聚物 纳米 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种含硅共聚物纳米涂层,其特征在于,将基材暴露于共聚单体蒸汽氛围中,通过等离子体放电在基材表面引发共聚发生化学气相沉积反应而形成保护涂层;所述共聚单体蒸汽为汽化的下述共聚单体1中的一种或多种物质和下述共聚单体2中的一种或多种,或者共聚单体2的混合物;所述共聚单体1具有如下式(I)、(II)或(III)所示结构:共聚单体1:
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7为独立地选自氢、烷基、芳基、卤素或卤代烷基,X为氢或卤素;共聚单体2具有如下式(IV),或者共聚单体2为硅氧烷和/或其衍生物;
R8、R9、R10、R11、R12、R13独立地选自氢、烷基、芳基、卤代芳基、卤素、卤代烷基、烷氧基或乙烯基,m、n为0‑20的整数,k为0‑8的整数。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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