[发明专利]一种利用平面天线阵的辐射场产生二维同一焦斑阵列的方法

摘要

本发明涉及一种利用平面天线阵的辐射场产生二维同一焦斑阵列的方法，本发明首先采用两个高数值孔径透镜组成4π聚焦系统；然后在由两个高数值孔径透镜组成的4π聚焦系统的焦平面中央排列一个虚拟的平面天线阵；该天线阵辐射的电磁场向外传播到达像空间侧的透镜，并被两个所述高数值孔径透镜完全收集，接着继续传播到两个透镜的光瞳面上，得到光瞳面上的场分布；最后将光瞳面上的场分布视为入射场并逆向传输到焦区，在高数值孔径透镜的焦平面上产生具有预定特性的二维同一焦斑阵列。本发明采用无需优化的方法来生成具有预定数量、间距和位置的二维同一焦斑阵列。

主权项

1.一种利用平面天线阵的辐射场产生二维同一焦斑阵列的方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤S1：采用两个高数值孔径透镜组成4π聚焦系统；步骤S2：在步骤S1的由两个高数值孔径透镜组成的4π聚焦系统的焦平面中央排列一个虚拟的平面天线阵；该天线阵辐射的电场向外传播到达像空间侧的透镜，并被两个所述高数值孔径透镜完全收集，接着继续传播到两个透镜的光瞳面上，得到光瞳面上的场分布其中，是球坐标，是光瞳面上的极坐标，θ表示辐射方向与Z轴之间的夹角，表示方位角，ρ表示极径；步骤S3：将步骤S2中的光瞳面上的场分布视为入射场并逆向传输到焦区，在高数值孔径透镜的焦平面上产生具有预定特性的二维同一焦斑阵列。