[发明专利]一种提高硬质涂层与基材结合力的装置及工艺在审
申请号: | 201811250029.X | 申请日: | 2018-10-25 |
公开(公告)号: | CN109055901A | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 刘伟;马槽伟 | 申请(专利权)人: | 大连维钛克科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 116600 辽宁省大连市*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明的提高物理气相沉积硬质涂层与基材结合力的装置和工艺,在原有物理气相沉积装置基础上,该装置由嵌入真空室腔壁的柱状弧源或平面弧源和置于其前面距离、位置可调的挡板,以及相应的独立供电电源组成。通过调整弧源、挡板、悬挂基材转架及真空室壁之间的电位,实现对弧源发射的等离子体及其所离化工作气体离子的分离、运动的有效控制,实现电子轰击加热、气体离子或弧源金属离子刻蚀清洗及金属离子注入,之后接续硬质涂层的物理气相沉积,本装置及工艺能够使基材表面清洗更加彻底,调控基材表面粗糙度,活化基材表面,有效提高了刀具、模具、机械关键零部件和锁具等产品表面硬质防护涂层与基体的结合力。 | ||
搜索关键词: | 硬质涂层 结合力 弧源 基材 物理气相沉积 挡板 金属离子 物理气相沉积装置 等离子体 电位 独立供电电源 基材表面清洗 真空室腔壁 产品表面 电子轰击 防护涂层 工作气体 活化基材 基材表面 机械关键 平面弧源 气体离子 位置可调 有效控制 真空室壁 柱状弧源 粗糙度 刻蚀 离化 锁具 硬质 转架 加热 模具 刀具 接续 嵌入 离子 清洗 零部件 悬挂 发射 调控 | ||
【主权项】:
1.一种提高硬质涂层与基材结合力的装置,其特征在于:真空腔室(10)内部安装弧源和挡板(12),弧源包括弧源靶(110)和弧源阳极(111),弧源前方安装挡板(12),真空腔室(10)中心处安装转架(13),弧源的电源负极端接在阴极弧源靶(110)上,弧源的电源正极端接在装配在弧源附近的阳极(111)上;独立的挡板电源及转架电源分别与挡板(12)及转架(13)连接,其中两个电源的另一极与真空腔室(10)连接,弧源阳极、挡板(12)、转架(13)与真空腔室(10)都为电位悬浮状态。
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