[发明专利]一种电弧离子镀装置及沉积硬质涂层工艺在审
| 申请号： | 201811250036.X | 申请日： | 2018-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN109136865A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 刘伟;马槽伟 | 申请（专利权）人： | 大连维钛克科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/48;C23C14/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 116600 辽宁省大连市*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种电弧离子镀装置及沉积硬质涂层工艺，该装置由真空室、真空抽气系统、四组弧源和置于其前的转动挡板组成，其中，转动挡板包括清洗挡板及沉积栅网两种，悬挂于真空室上部的转动盘上，有效防止大颗粒污染涂层结构和降低性能，同时还能有效提高对基材加热、清洗和刻蚀以及离子注入效果，显著提高后续制备的硬质防护涂层与基材的结合力，可用于刀具、模具、机械零部件等表面制备硬质防护薄膜和涂层领域。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 电弧离子镀装置 硬质涂层 转动挡板 真空室 基材 硬质 清洗 真空抽气系统 机械零部件 挡板 表面制备 防护薄膜 防护涂层 降低性能 涂层领域 污染涂层 大颗粒 结合力 转动盘 弧源 可用 刻蚀 栅网 制备 加热 模具 刀具 离子 悬挂 | ||
【主权项】：
1.一种电弧离子镀装置，其特征在于：包括真空室（10）、真空抽气系统（11）、弧源（12）和置于转动挡板，真空室（10）内中心处安装转架（101），真空室（10）连接真空抽气系统（11），每组弧源（12）的弧源阳极（120）与真空室（10）之间电位可实现悬浮与导通的切换，转动挡板包括清洗挡板（131）和沉积栅网（132），清洗挡板（131）和沉积栅网（132）间隔均匀分布安装在真空室（10）内的转动盘（1302）上，中空结构转动盘（1302）通过支撑组件安装于真空室（10）内壁，转动盘（10）连接驱动轮转动驱动装置（130），转动盘（1302）位于转架（101）外侧。
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