[发明专利]一种UV模具版光刻制作工艺

摘要

本发明公开了一种UV模具版光刻制作工艺，包括如下步骤：S1、提供一掩膜版，掩膜版为三层结构，包括上层光学高分子PC复合板材、下层中性UV光刻胶和将其两者粘接在一起的中间第一密着层；光刻胶通过光刻曝光形成纳米图纹；S2、提供一UV母模，母模为三层结构，包括上层中性UV固体胶、下层PC板材和将其两者粘接在一起的中间第二密着层；S3、将掩膜版放置于UV母模上，通过EVA紫外直射在光学高分子PC复合板材上对中性UV固体胶进行光刻，形成阴影区；S4、取出UV母模，对UV母模进行显影脱水；S5、坚膜。本发明采用PC板材来作为模具版，其生产成本大大降低；利用光学高分子PC板材、第一密着层和UV光刻胶来制作掩膜版，大大降低制作周期，更佳方便。

主权项

1.一种UV模具版光刻制作工艺，其特征在于：包括如下步骤：S1、提供一掩膜版，所述掩膜版为三层结构，包括上层光学高分子PC复合板材、下层中性UV光刻胶和将其两者粘接在一起的中间第一密着层；所述光刻胶通过光刻曝光形成纳米图纹；S2、提供一UV母模，所述母模为三层结构，包括上层中性UV固体胶、下层PC板材和将其两者粘接在一起的中间第二密着层；S3、将所述掩膜版放置于所述UV母模上，通过EVA紫外直射在光学高分子PC复合板材上对中性UV固体胶进行光刻，形成阴影区；S4、取出UV母模，对UV母模进行显影脱水；S5、坚膜。