[发明专利]一种19.5nm多层膜反射镜在审
| 申请号： | 201811258124.4 | 申请日： | 2018-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN109254338A | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 王孝东;陈波;王海峰;刘阳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹卫良 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种19.5nm多层膜反射镜，其包括：基底、交替叠加层、帽层，所述交替叠加层设置在所基底上，所述帽层设置在交替叠加层上；所述交替叠加层包括：半导体薄膜层以及与所述半导体薄膜层交替叠加设置的钼薄膜层，所述半导体薄膜层与所述钼薄膜层共交替叠加多层。本发明公开的19.5nm多层膜反射镜具有耐高能粒子辐照和太阳辐射的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 交替叠加 半导体薄膜层 多层膜反射镜 钼薄膜层 基底 帽层 高能粒子辐照 太阳辐射 多层 | ||
【主权项】：
1.一种19.5nm多层膜反射镜，其特征在于，包括：基底、交替叠加层、帽层，所述交替叠加层设置在所基底上，所述帽层设置在交替叠加层上；所述交替叠加层包括：半导体薄膜层以及与所述半导体薄膜层交替叠加设置的钼薄膜层，所述半导体薄膜层与所述钼薄膜层共交替叠加多层。
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