[发明专利]后期易维护的反应釜

摘要

本发明的后期易维护的反应釜，通过设置承载套件、反应釜装置、清洗装置及搅拌装置。在实际的应用过程中，当需要对反应釜装置进行维护时，生产人员仅需用手握持第一握持块和第二握持块，将反应釜体往远离承载台体的方向移动，即可将反应釜装置从承载台体上脱离出来，对反应釜装置进行后期维护；当生产人员对反应釜装置维护好后，将反应釜装置穿设容置孔，第一引导柱插接于第一插接孔内，第二引导柱插接于第二插接孔内，即可将反应釜装置重新安装在承载台体上。上述过程不需借助辅助拆卸工具和额外的拆卸人员，拆卸效率高，便于后期对反应釜装置进行维护，节约了后期维护成本。

主权项

1.一种后期易维护的反应釜，其特征在于，包括：承载套件，所述承载套件包括承载台体和支撑组件，所述承载台体上开设有容置孔、第一插接孔和第二插接孔，所述支撑组件设置于所述承载台体上；反应釜装置，所述反应釜装置设置于所述承载台体上，所述反应釜装置包括反应釜体、密封盖体、第一安装组件和第二安装组件，所述密封盖体设置于所述反应釜体上，所述密封盖体上开设有多个清洗孔，所述第一安装组件和所述第二安装组件分别设置于所述反应釜体的外侧壁上，所述反应釜体穿设所述容置孔，并且所述第一安装组件和所述第二安装组件一一对应插接于所述第一插接孔和所述第二插接孔内，所述第一安装组件包括第一握持块、第一抵持块和第一引导柱，所述第一握持块和所述第一抵持块分别设置于所述反应釜体的外侧壁上，所述第一引导柱设置于所述第一抵持块上，所述第一引导柱的端部插接于所述第一插接孔内，所述第二安装组件包括第二握持块、第二抵持块和第二引导柱，所述第二握持块和所述第二抵持块分别设置于所述反应釜体的外侧壁上，所述第二引导柱设置于所述第二抵持块上，所述第二引导柱的端部插接于所述第二插接孔内；清洗装置，所述清洗装置设置于所述承载台体上，并且所述清洗装置的输出端分别与多个所述清洗孔连通；及搅拌装置，所述搅拌装置设置于所述密封盖体上。