[发明专利]一种具有保护层的光学薄膜、纳米结构色晶体及制备方法在审
| 申请号： | 201811259814.1 | 申请日： | 2018-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN111103638A | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 马道远 | 申请（专利权）人： | 深圳市融光纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14;G02B1/00;G02B1/115 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种具有保护层的光学薄膜、纳米结构色晶体及制备方法，该具有保护层的光学薄膜，包括多层光学介质层以及设置在多层光学介质层两侧的第一保护层和第二保护层；在光学薄膜粉碎时，第一保护层和第二保护层用于保护多层光学介质层；其中，第一保护层的光学厚度的范围为入射波长的三十分之一至二分之一，第二保护层的光学厚度范围为入射波长的三十分之一至二分之一，入射光波长的范围为380‑780纳米。通过上述方式，本申请能够保护多层光学介质层，避免现有粉碎方法所造成的光学薄膜碎片表面损伤，进而提高光学涂料的亮度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 保护层 光学薄膜 纳米 结构 晶体 制备 方法 | ||
【主权项】：
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