[发明专利]一种制备铜表面超疏水结构的方法及装置在审
申请号: | 201811261946.8 | 申请日: | 2018-10-26 |
公开(公告)号: | CN109161958A | 公开(公告)日: | 2019-01-08 |
发明(设计)人: | 李占国;王勇;翁占坤;董明雪;尤明慧;王岳;周柄智;李曦瞳;陈鹤;王丽娟;邹军 | 申请(专利权)人: | 长春理工大学 |
主分类号: | C25F3/02 | 分类号: | C25F3/02;C25F7/00 |
代理公司: | 北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙) 11548 | 代理人: | 李静 |
地址: | 130022 *** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及纳米制造技术领域,公开了一种制备铜表面超疏水结构的方法,主要包括以下步骤:1)将切好的Cu片进行超声清洗,清洗后的Cu片作为阳极基底;2)将浸泡在饱和KCl溶液中的甘汞电极取出,冲洗后的甘汞电极作为参比电极;3)对Pt电极片进行超声清洗,干燥后的Pt电极片作为阴极;4)通过去离子水对电解池进行冲洗,干燥后的电解池待用;5)配制1MNaCl溶液作为电解液;6)将阳极基底、参比电极、阴极、电解液分别放置于电解池中;7)通过控制系统控制电化学工作站进行刻蚀。本发明为铜超疏水表面的制备提供了一种环保、高效、造价低廉的制备方法。 | ||
搜索关键词: | 制备 电解池 阴极 超疏水结构 阳极 参比电极 超声清洗 甘汞电极 电解液 铜表面 基底 冲洗 电化学工作站 纳米制造技术 超疏水表 控制系统 去离子水 刻蚀 配制 浸泡 清洗 饱和 取出 环保 | ||
【主权项】:
1.一种制备铜表面超疏水结构的方法,其特征在于,采用计时电位法,在Cu基底上刻蚀制备超疏水微纳结构,包括以下步骤:1)将切好的Cu片依次在丙酮、无水乙醇和去离子水中进行超声清洗,超声频率70KHz,每种溶液中清洗三遍,每遍5min,清洗后的Cu片作为阳极基底(1);2)将浸泡在饱和KCl溶液中的甘汞电极取出,用去离子水冲洗三次,冲洗后的甘汞电极作为参比电极(2);3)对Pt电极片进行超声清洗,清洗后在恒温鼓风干燥箱中进行干燥,干燥温度为60℃,干燥后的Pt电极片作为阴极(3);4)通过去离子水对电解池(4)进行冲洗,冲洗后在恒温鼓风干燥箱中进行干燥,干燥温度为60℃,干燥后的电解池(4)待用;5)配制1MNaCl溶液作为电解液(5),配置过程中通过70KHz超声溶解5min,待用;6)将阳极基底(1)、参比电极(2)、阴极(3)、电解液(5)分别放置于电解池(4)中,电化学工作站(6)预热20min;7)通过控制系统(7)控制电化学工作站(6)进行刻蚀,控制电流密度从320减至260mA·cm‑2,控制扫描速率为0.085‑0.06mA·cm‑2·s‑1,刻蚀温度为室温、刻蚀时间为40min,即可。
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