[发明专利]一种提高量子效率的图像传感器像素单元结构和形成方法有效
申请号: | 201811267857.4 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN109509763B | 公开(公告)日: | 2021-03-02 |
发明(设计)人: | 顾学强 | 申请(专利权)人: | 上海微阱电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 陶金龙;张磊 |
地址: | 201203 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种提高量子效率的图像传感器像素单元结构,包括设于硅衬底正面的光电二极管和传输管栅极,设于层间介质层中的金属互连层和聚光反射层,聚光反射层设有聚光层和金属反射层,并对应位于光电二极管的下方,聚光层具有阵列状的多个聚光突起,每个聚光突起具有面向光电二极管设置的弧形凸面表面,用于对自硅衬底背面入射的光线进行聚光,金属反射层具有与每个聚光突起的弧形凸面表面对应的连续弧形状结构,用于将经聚光后的入射光线再次反射至光电二极管中,保证了近红外光在硅衬底里吸收比例的大幅上升,提高了背照式像素单元的近红外量子效率。本发明还公开了一种提高量子效率的图像传感器像素单元结构的形成方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 量子 效率 图像传感器 像素 单元 结构 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种提高量子效率的图像传感器像素单元结构,其特征在于,包括:硅衬底;设于所述硅衬底正面的光电二极管和传输管栅极;设于所述硅衬底正面下方的层间介质层;设于所述层间介质层中的金属互连层和聚光反射层,所述聚光反射层对应位于光电二极管的下方;其中,所述聚光反射层设有聚光层和位于聚光层下方的金属反射层;所述聚光层设有阵列状的多个聚光突起,每个聚光突起具有面向光电二极管设置的平面底面和背向光电二极管设置的弧形凸面表面,用于对自硅衬底背面入射的光线进行聚光,所述金属反射层具有与每个聚光突起的弧形凸面表面对应的连续弧形状结构,用于将经聚光后的入射光线再次反射至光电二极管中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的