[发明专利]一种砷化镓刻蚀方法在审

专利信息
申请号: 201811268905.1 申请日: 2018-10-29
公开(公告)号: CN111106004A 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 李宗鑫 申请(专利权)人: 东泰高科装备科技有限公司
主分类号: H01L21/3063 分类号: H01L21/3063;H01L31/18
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司 11252 代理人: 曾晨;周放
地址: 102209 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种砷化镓刻蚀方法,包括将砷化镓置于电化学反应池的电解液中,电解液包括非氧化性酸、金属溴化物和水;给电化学反应池中的电极通入预定电压,预定电压为电解液的pH值和金属溴化物的浓度在预定范围时保持预定刻蚀速率的电压。本申请中来自金属溴化物的溴离子可通过电化学反应生成溴气,溴气与水反应生成次溴酸。砷化镓可在被次溴酸氧化后与电解液中的氢离子发生反应,达到通过电化学反应的方式刻蚀砷化镓的目的。本申请的砷化镓刻蚀方法可通过控制电压来控制砷化镓的刻蚀速率,刻蚀速率易控,且控制的精度高。
搜索关键词: 一种 砷化镓 刻蚀 方法
【主权项】:
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