[发明专利]一种公共层掩膜板及其制备方法有效
| 申请号： | 201811271057.X | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN109402557B | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 张浩瀚;白珊珊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，公开了一种公共层掩膜板及其制备方法，该公共层掩膜板中，包括掩膜板本体，掩膜板本体包括使用时朝向基板的第一表面以及背离基板的第二表面，掩膜板本体上形成有至少一个开口，掩膜板本体在开口的周边区域处形成有翘曲部，且翘曲部沿指向开口的方向向由第二表面指向第一表面的方向翘曲。上述公共层掩膜板中，通过该公共层掩膜板与基板配合使用，即使用时掩膜板本体与阻隔凸起间存在一定距离，且翘曲部向基板方向翘曲减小了开口周边区与基板间的距离，实现了在保证防止刮伤阻隔凸起的前提下降低了蒸镀阴影的效果，有效提高了产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 公共 层掩膜板 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种公共层掩膜板，其特征在于，包括掩膜板本体，所述掩膜板本体包括使用时朝向基板的第一表面以及背离所述基板的第二表面，所述掩膜板本体上形成有至少一个开口，所述掩膜板本体在所述开口的周边区域处形成有翘曲部，且所述翘曲部沿指向所述开口的方向向由所述第二表面指向所述第一表面的方向翘曲。
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