[发明专利]半导体激光治疗仪在审
申请号: | 201811272817.9 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN109200483A | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 杨希朋 | 申请(专利权)人: | 深圳天基权健康科技集团股份有限公司 |
主分类号: | A61N5/067 | 分类号: | A61N5/067 |
代理公司: | 深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) 44312 | 代理人: | 袁文英 |
地址: | 518100 广东省深圳市福田区深南大道*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种半导体激光治疗仪,其中,该半导体激光治疗仪包括:至少两组半导体激光合成器和控制系统;所述半导体激光合成器包括:激光介质晶体,泵浦用半导体激光器,激光振荡镜组,倍频晶体,反馈镜,聚焦透镜;所述泵浦用半导体激光器用于泵浦所述激光介质晶体;所述激光振荡镜组用于在所述激光介质晶体被激发产生粒子数反转后,使得粒子数反转后的激光在激光谐振腔之间产生基波激光振荡;所述倍频晶体将所述激光振荡镜组输出的谐波激光倍频为红光激光;所述反馈镜用于将未倍频的谐波激光反射回所述激光谐振腔,并输出产生的用于治疗的红光激光;所述聚焦透镜用于将所述红光激光聚焦到传输光纤的端面,并通过所述传输光纤传输到治疗部位。 | ||
搜索关键词: | 半导体激光治疗仪 激光介质晶体 激光振荡 泵浦 红光 镜组 半导体激光器 半导体激光 激光谐振腔 粒子数反转 激光 倍频晶体 传输光纤 聚焦透镜 谐波激光 反馈镜 合成器 倍频 基波激光 激光聚焦 控制系统 输出产生 治疗部位 振荡 两组 反射 传输 输出 激发 治疗 | ||
【主权项】:
1.一种半导体激光治疗仪,其特征在于,包括:至少两组半导体激光合成器和控制系统;所述半导体激光合成器包括:激光介质晶体,泵浦用半导体激光器,激光振荡镜组,倍频晶体,反馈镜,聚焦透镜;所述泵浦用半导体激光器用于泵浦所述激光介质晶体;所述激光振荡镜组用于在所述激光介质晶体被激发产生粒子数反转后,使得粒子数反转后的激光在激光谐振腔之间产生基波激光振荡;所述倍频晶体将所述激光振荡镜组输出的谐波激光倍频为红光激光;所述反馈镜用于将未倍频的谐波激光反射回所述激光谐振腔,并输出产生的用于治疗的红光激光;所述聚焦透镜用于将所述红光激光聚焦到传输光纤的端面,并通过所述传输光纤传输到治疗部位;所述激光介质晶体和所述激光振荡镜组组成所述激光谐振腔,所述倍频晶体放置在所述激光振荡镜组之内,所述聚焦透镜设置于所述反馈镜之后;所述控制系统用于控制所述半导体激光治疗仪的工作。
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