[发明专利]使用可光刻键合材料的晶圆级封装方法在审

专利信息
申请号: 201811283751.3 申请日: 2018-10-31
公开(公告)号: CN111128749A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 石虎;刘孟彬 申请(专利权)人: 中芯集成电路(宁波)有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48
代理公司: 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 代理人: 高静;李丽
地址: 315800 浙江省宁波市北*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种使用可光刻键合材料的晶圆级封装方法,包括:提供基板和多个第一芯片;在基板或第一芯片上形成可光刻键合层;利用光刻工艺图形化键合层,在键合层内形成第一通孔;通过键合层,预键合第一芯片至基板,第一芯片与第一通孔与相对应;提供封装材料,采用热压合工艺使基板和多个第一芯片通过键合层实现键合,并使封装材料填充于多个第一芯片之间且覆盖多个第一芯片和基板;在热压合工艺后,刻蚀基板背向第一芯片的面,在基板内形成贯穿基板且与第一通孔相贯通的第二通孔,第二通孔和第一通孔用于构成第一导电通孔;在第一导电通孔内形成与第一芯片电连接的第一导电柱。本发明在提高封装效率的同时,提高封装结构的良率和可靠性。
搜索关键词: 使用 光刻 材料 晶圆级 封装 方法
【主权项】:
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