[发明专利]一种抑制芯片及其制备方法有效
申请号: | 201811287421.1 | 申请日: | 2018-10-31 |
公开(公告)号: | CN109449152B | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 深圳市巴达木科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 广州海藻专利代理事务所(普通合伙) 44386 | 代理人: | 张大保 |
地址: | 518100 广东省深圳市宝安区新安街*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种抑制芯片,其包括:第一导电类型的第一衬底,自第一衬底的上表面向下形成的多个第一沟槽,形成在第一沟槽的内壁及第一衬底的上表面的第一导电类型的第一扩散区,第二导电类型的第二衬底,自第二衬底的下表面向上形成的多个第二沟槽,第二沟槽之间形成多个凸柱,凸柱用于与第一沟槽配合,形成在第二沟槽的内壁及凸柱的上表面的第二导电类型的第二扩散区,第一衬底与第二衬底通过第一沟槽与凸柱键合使第一扩散区与第二扩散区接触,形成在二衬底的上表面的第二导电类型的外延层,形成在外延层的上表面的第一导电类型的第三扩散区。本发明还公开了抑制芯片的制备方法。其能实现双向保护,且寄生电容小,满足高频电路的需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 抑制 芯片 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种抑制芯片,其特征在于,其包括:第一导电类型的第一衬底,自所述第一衬底的上表面向下形成的多个第一沟槽,形成在所述第一沟槽的内壁及所述第一衬底的上表面的第一导电类型的第一扩散区,第二导电类型的第二衬底,自所述第二衬底的下表面向上形成的多个第二沟槽,所述第二沟槽之间形成多个凸柱,所述凸柱用于与所述第一沟槽配合,形成在所述第二沟槽的内壁及所述凸柱的上表面的第二导电类型的第二扩散区,所述第一衬底与第二衬底通过所述第一沟槽与所述凸柱键合使第一扩散区与第二扩散区接触,形成在所述第二衬底的上表面的第二导电类型的外延层,形成在所述外延层的上表面的第一导电类型的第三扩散区,形成在所述第一衬底的下表面的第一金属层,形成在所述第三扩散区的上表面的第二金属层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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