[发明专利]一种功率器件防护芯片及其制造方法有效
申请号: | 201811287424.5 | 申请日: | 2018-10-31 |
公开(公告)号: | CN109449153B | 公开(公告)日: | 2021-06-11 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 深圳市物芯智能科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L21/82 |
代理公司: | 深圳峰诚志合知识产权代理有限公司 44525 | 代理人: | 李明香 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种功率器件保护芯片,功率器件保护芯片包括第一导电类型的衬底,还包括第一导电类型的第一外延层、第二导电类型的注入区和第二外延层、沟槽、氧化硅层和第一金属层,第一外延层形成在衬底的上表面,注入区自第一外延层的上表面向下形成,第二外延层形成在第一外延层上表面,沟槽自第二外延层的上表面向下延伸并暴露出第一外延层的上表面,沟槽的侧壁形成有氧化硅层,第一金属层填满沟槽,并位于注入区的上表面。还公开了功率器件保护芯片的制造方法,实现了快速封装,并且双向多路集成,提高了器件的性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 功率 器件 防护 芯片 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种功率器件保护芯片,其特征在于,所述功率器件保护芯片包括第一导电类型的衬底,还包括第一导电类型的第一外延层、第二导电类型的注入区和第二外延层、沟槽、氧化硅层和第一金属层,所述第一外延层形成在所述衬底的上表面,所述注入区自所述第一外延层的上表面向下形成,所述第二外延层形成在所述第一外延层上表面,所述沟槽自所述第二外延层的上表面向下延伸并暴露出所述第一外延层的上表面,所述沟槽的侧壁形成有所述氧化硅层,所述第一金属层填满所述沟槽,并位于所述注入区的上表面,所述功率器件保护芯片还包括形成在所述衬底下表面的第二导电类型的扩散层、形成在所述第二外延层的上表面的第二金属层和形成在所述扩散层的下表面的第三金属层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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