[发明专利]一种防护芯片及其制备方法有效
申请号: | 201811287595.8 | 申请日: | 2018-10-31 |
公开(公告)号: | CN109449154B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 广东高普达集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人: | 王新爱 |
地址: | 广东省深圳市龙华区大浪街道同胜社区华*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种防护芯片,包括:第一导电类型的衬底,形成在所述衬底的上表面的第一导电类型的第一外延层,自所述第一外延层的上表面向下形成的倒T型的多个第一沟槽,所述第一沟槽包括横向沟槽及与所述横向沟槽连通的纵向沟槽,自所述横向沟槽的底面向所述第一外延层延伸形成的第二导电类型的第一注入区,填充所述横向沟槽的第二导电类型的第二外延层,填充所述纵向沟槽并延伸至所述横向沟槽的底部的第一导电类型的第三外延层,自所述第一外延层的上表面向所述纵向沟槽的两侧延伸的第一导电类型的第二注入区。其还公开了上述防护芯片的制备方法。其能实现双向保护,且寄生电容小,满足高频电路的需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 防护 芯片 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种防护芯片,其特征在于,包括:第一导电类型的衬底,形成在所述衬底的上表面的第一导电类型的第一外延层,自所述第一外延层的上表面向下形成的倒T型的多个第一沟槽,所述第一沟槽包括横向沟槽及与所述横向沟槽连通的纵向沟槽,自所述横向沟槽的底面向所述第一外延层延伸形成的第二导电类型的第一注入区,填充所述横向沟槽的第二导电类型的第二外延层,填充所述纵向沟槽并延伸至所述横向沟槽的底部的第一导电类型的第三外延层,自所述第一外延层的上表面向所述纵向沟槽的两侧延伸的第一导电类型的第二注入区,形成在所述衬底的下表面的第一金属层,形成在所述第一外延层、所述第二注入区和所述第三外延层的上表面的第二金属层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的