[发明专利]一种通用型光刻胶剥离液及其应用有效

专利信息
申请号: 201811298249.X 申请日: 2018-11-02
公开(公告)号: CN109143800B 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 李森虎;朱龙;承明忠;邵勇;陈林;顾玲燕;殷福华;赵文虎;姚玮 申请(专利权)人: 江阴江化微电子材料股份有限公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 无锡坚恒专利代理事务所(普通合伙) 32348 代理人: 杜兴
地址: 214400 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种通用型光刻胶剥离液,主要组成为季铵类氢氧化物、醇醚类化合物、水溶性链烷醇胺、水溶性有机极性溶剂、金属缓蚀剂,通用型光刻胶剥离液中还含有C3~C6的氨基酯。小分子的氨基酯加速光刻胶的溶胀,剥离后水洗溶液中小分子的氨基酯发生水解产生于氢氧根中和的酸,改善水洗过程中的铜铝布线腐蚀现象。本发明还公开了通用型光刻胶剥离液在基板光刻胶剥离工艺中的应用。
搜索关键词: 一种 通用型 光刻 剥离 及其 应用
【主权项】:
1.一种通用型光刻胶剥离液,其特征在于,主要组成为季铵类氢氧化物、醇醚类化合物、水溶性链烷醇胺、水溶性有机极性溶剂、金属缓蚀剂,通用型光刻胶剥离液中还含有C3~C6的氨基酯。
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