[发明专利]一种利用冷喷涂工艺制备铜铟镓旋转靶材的方法及其产品在审
| 申请号： | 201811300374.X | 申请日： | 2018-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN109295428A | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 所新坤;黄晶;周平;刘奕;凤晓华;陈秀勇;张波涛;李华 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C24/08 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 朱朦琪 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用冷喷涂工艺制备铜铟镓旋转靶材的方法，包括制备喷涂粉末原料和冷喷涂，所述冷喷涂采用包括冷喷涂系统、冷喷涂腔室、过滤系统和气体增压系统的氦气循环冷喷涂系统，具体为：将冷喷涂腔室抽真空至0～500Pa，将喷涂粉末原料送入冷喷涂系统，利用压缩氦气作为工作气体，带动喷涂粉末原料碰撞放置于冷喷涂腔室中基体，从而在基体表面沉积形成致密涂层；冷喷涂过程中，控制冷喷涂腔室内压力维持在5000～20000Pa。本发明提供了一种利用冷喷涂工艺制备铜铟镓旋转靶材的方法，工艺简单，铜铟镓涂层与基体的结合强度高，无需过渡层。 | ||
| 搜索关键词： | 冷喷涂 铜铟镓 制备 冷喷涂工艺 冷喷涂系统 喷涂粉末 旋转靶材 腔室 气体增压系统 腔室抽真空 腔室内压力 工作气体 过滤系统 基体表面 压缩氦气 致密涂层 过渡层 沉积 氦气 送入 | ||
【主权项】：
1.一种利用冷喷涂工艺制备铜铟镓旋转靶材的方法，包括制备喷涂粉末原料和冷喷涂，其特征在于，所述冷喷涂采用氦气循环冷喷涂系统；所述氦气循环冷喷涂系统包括冷喷涂系统、冷喷涂腔室、过滤系统和气体增压系统；所述冷喷涂，具体为：将冷喷涂腔室抽真空至0～500Pa，将喷涂粉末原料送入冷喷涂系统，利用压缩氦气作为工作气体，带动喷涂粉末原料碰撞放置于冷喷涂腔室中基体，从而在基体表面沉积形成致密涂层；未沉积的喷涂粉末原料随同氦气进入过滤系统，过滤后的氦气进入气体增压系统增压后重新返回冷喷涂系统，收集未沉积的喷涂粉末，经筛选后作为粉末增强相重复使用；冷喷涂过程中，控制冷喷涂腔室内压力维持在5000～20000Pa。
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