[发明专利]一种通过光阻膜厚监控涂胶显影机台涂胶槽水平程度的方法有效
| 申请号： | 201811302702.X | 申请日： | 2018-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN109405770B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 张涛;王晓龙 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/30 | 分类号： | G01B11/30 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明一种通过光阻膜厚监控涂胶显影机台涂胶槽水平程度的方法，包括以下步骤：步骤一、测量硅片上表面光阻膜的二维平面在X和Y两个方向上的膜厚，并得到X方向膜厚数据和Y方向膜厚数据；步骤二、将步骤一中得到的X方向膜厚数据和Y方向膜厚数据通过线性拟合的方式得到膜厚拟合线斜率；步骤三、将步骤二中得到的膜厚拟合线斜率与数据库进行对比，若膜厚拟合线斜率落入数据库的斜率范围内，则监控显示结果为无异常，若膜厚拟合线斜率未落入数据库的斜率范围内，则监控显示结果为异常；本发明大大解决了现有涂胶槽平整度的监控方法无预警式监控，在产品出现异常后人为用水平仪进行测定以及人工测量耗时较长，对生产线带来大面积影响等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 光阻膜厚 监控 涂胶 显影 机台 水平 程度 方法 | ||
【主权项】：
1.一种通过光阻膜厚监控涂胶显影机台涂胶槽水平程度的方法，其特征在于，预先设定一数据库，所述数据库中包括所述硅片的膜厚拟合线斜率的可接受数值范围，还包括以下步骤：步骤1、测量硅片上表面光阻膜的二维平面在X和Y两个方向上的膜厚，并得到X方向膜厚数据和Y方向膜厚数据；步骤2、将步骤1中得到的所述X方向膜厚数据和Y方向膜厚数据通过线性拟合的方式得到膜厚拟合线斜率；步骤3、将步骤2中得到的所述膜厚拟合线斜率与所述数据库中的所述可接受数值范围进行对比，若所述膜厚拟合线斜率落入所述可接受数值范围内，则监控显示结果为无异常，若所述膜厚拟合线斜率未落入所述可接受数值范围内，则监控显示结果为异常。
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