[发明专利]一种制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法有效
| 申请号： | 201811303464.4 | 申请日： | 2018-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN109321141B | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 窦文涛;宗艳民;梁庆瑞;王含冠;其他发明人请求不公开姓名 | 申请（专利权）人： | 山东天岳先进材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 37232 济南千慧专利事务所(普通合伙企业) | 代理人： | 吴绍群<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 250100 山东省济南市高新区*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出了一种制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，所述制备方法包括以下步骤：用表面改性剂对高硬度磨料分散液进行表面改性，再依次加入pH稳定剂和氧化剂，其中表面改性剂为有机酸。本发明的抛光液在进行化学机械抛光过程能很好的保持pH值的稳定性，并且抛光液的分散稳定性好且分散均匀。本发明由于该抛光液的制备方法中加入了pH稳定剂，使得该抛光液在进行化学机械抛光过程中的pH值稳定性更强，并且在抛光液中使用有机酸表面改性剂对高硬度磨料分散液进行表面改性，使得抛光液不容易发生硬团聚。本发明的抛光液对环境无污染，可以采用循环供料的方式使用。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光液 制备 化学机械抛光过程 化学机械抛光液 磨料 表面改性剂 表面改性 分散液 高硬度 碳化硅 氧化剂 分散稳定性 环境无污染 有机酸表面 方式使用 分散均匀 改性剂 硬团聚 有机酸 供料 | ||
【主权项】：
1.一种制备pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液的方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：/n用表面改性剂对高硬度磨料分散液进行表面改性，再依次加入pH稳定剂和氧化剂，其中，所述表面改性剂为乙酸和/或丙酸，所述pH稳定剂为硝酸铝，所述氧化剂选自高锰酸钾，所述抛光液对SiC单晶的Si面的去除速度为0.5~1.5μm/hr且对SiC单晶的C面的去除速度为3.5~6μm/hr。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东天岳先进材料科技有限公司，未经山东天岳先进材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811303464.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
