[发明专利]一种用于制备碳化硅单晶的可调节热场结构有效

专利信息
申请号: 201811303468.2 申请日: 2018-11-02
公开(公告)号: CN109234800B 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 高超;刘家朋;李长进;李加林;刘鹏飞;孙元行;李宏刚;宗艳民 申请(专利权)人: 山东天岳先进科技股份有限公司
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;C30B29/36
代理公司: 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 代理人: 陈曦
地址: 250118 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 本申请公开了一种制备碳化硅单晶的可调节热场结构,属于碳化硅单晶的制备领域。该制备碳化硅单晶的可调节热场结构包括:坩埚,放置用于生长碳化硅单晶的原料;加热装置,加热所述坩埚;所述坩埚外部至少套设一个可沿坩埚轴向移动的套环。本申请的可调节热场结构在坩埚外侧增加螺纹及配套的套环,实现坩埚发热区的快速转换,能够快速便捷的实现热场的调整,同时大大降低碳化硅单晶的制造成本。
搜索关键词: 一种 用于 制备 碳化硅 调节 结构
【主权项】:
1.一种用于制备碳化硅单晶的可调节热场结构,其特征在于,所述结构包括:坩埚,放置用于生长碳化硅单晶的原料;加热装置,加热所述坩埚;所述坩埚外部至少套设一个可沿坩埚轴向移动的套环。
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