[发明专利]沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法在审
| 申请号： | 201811303760.4 | 申请日： | 2018-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN111206224A | 公开（公告）日： | 2020-05-29 |
| 发明（设计）人： | 田保峡;闻益;曲士座 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/58 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 许志勇 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区中国北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种沉积腔室、镀膜设备及镀膜方法，沉积腔室包括至少两排金属蒸发源和至少一排非金属蒸发源；每排金属蒸发源包括至少两种金属蒸发源；沿着沉积腔室的幅长方向，至少两排金属蒸发源分别设置于沉积腔室的两侧，且每排金属蒸发源成直线排布；每排金属蒸发源的总数量为9个。镀膜设备包括上述的沉积腔室。本发明改善了薄膜的性能，提高了太阳能薄膜电池的发电效率和成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 镀膜 设备 方法 | ||
【主权项】：
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