[发明专利]一种抗污染真空减反膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201811307553.6 | 申请日： | 2018-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN109164514B | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 张清华;邓雪然;杨伟;雷向阳;马红菊;王震;惠浩浩;王梓龙;张剑锋;张帅 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | C09D1/00 | 分类号： | C09D1/00;C09D7/65;C03C17/00;G02B1/113 |
| 代理公司： | 51229 成都正华专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 李亚男 |
| 地址： | 621900*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抗污染真空减反膜及其制备方法，属于光学材料技术领域。本发明通过在溶胶合成完成后加入改性剂2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7‑全氟‑1,8‑辛二醇，对生成的二氧化硅表面进行氟化改性，改性剂为全氟取代的二醇，同时采用六氟‑2‑甲基异丙基丙烯酸酯聚合物作为填充剂，从而在真空装置中也能保证该增透膜具有很高的性能。本发明制备的真空减反膜其表面自由能低，油脂或者水汽不易吸附于表面，在351nm的紫外波段具有>99％的高透射率，可实现强激光装置中三倍频激光的高能输出，在含有有机污染源的真空环境中放置数天后透射率基本保持不变。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 改性剂 抗污染 二醇 全氟 丙烯酸酯聚合物 二氧化硅表面 表面自由能 甲基异丙基 强激光装置 三倍频激光 氟化改性 高透射率 光学材料 真空环境 真空装置 紫外波段 水汽 填充剂 透射率 增透膜 吸附 污染源 合成 输出 保证 | ||
【主权项】：
1.一种抗污染真空减反膜，其特征在于，其原料包括原硅酸四乙酯、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-全氟-1,8-辛二醇和六氟-2-甲基异丙基丙烯酸酯聚合物，所述2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-全氟-1,8-辛二醇占原硅酸四乙酯质量的5-7％，所述六氟-2-甲基异丙基丙烯酸酯聚合物占所述原硅酸四乙酯质量的3-5％；原料还包括催化剂和有机溶剂，所述催化剂为盐酸、氟化铵或硝酸；/n所述抗污染真空减反膜通过以下方法制得：/n将原硅酸四乙酯、催化剂和有机溶剂混合，得到溶胶A，将2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-全氟-1,8-辛二醇与所述溶胶A混合后陈化，得到溶胶B，将六氟-2-甲基异丙基丙烯酸酯聚合物溶解于丙酮和仲丁醇的混合溶液中，得到溶液C，将所述溶液C与所述溶胶B混合，得到溶胶D，用所述溶胶D成膜，制得所述真空减反膜。/n
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