[发明专利]一种电致发光器件的膜层分析方法有效

专利信息
申请号: 201811308434.2 申请日: 2018-11-05
公开(公告)号: CN109374724B 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 刘莹;彭于航;杜聪聪;范磊;范春芳;吴启;薛孝忠;秦浩然 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;H01L51/50
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 杨广宇
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种电致发光器件的膜层分析方法,其中,电致发光器件包括:依次层叠的阳极层、电致发光材料层、以及含银阴极层。该膜层分析方法包括:提供具有离子溅射源和气体团簇离子源的质谱仪;利用离子溅射源从电致发光器件上剥离含银阴极层,得到暴露有电致发光材料层的分析样品;利用气体团簇离子源对暴露的电致发光材料层进行分析。通过离子溅射源对含银阴极层进行溅射剥离,其剥离过程稳定可控,能够有效且彻底地去除含银阴极层,避免了对电致发光材料层进行剥离。采用气体团簇离子源对暴露的电致发光材料层进行分析,不仅能够获得电致发光材料层的各膜层成分及位置,且不会对电致发光材料层造成损伤。
搜索关键词: 一种 电致发光 器件 分析 方法
【主权项】:
1.一种电致发光器件的膜层分析方法,所述电致发光器件包括:依次层叠的阳极层、电致发光材料层、以及含银阴极层,其特征在于,所述膜层分析方法包括:提供具有离子溅射源和气体团簇离子源的质谱仪;利用所述离子溅射源从所述电致发光器件上剥离所述含银阴极层,得到暴露有电致发光材料层的分析样品;利用所述气体团簇离子源对暴露的所述电致发光材料层进行分析。
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