[发明专利]微流体通道结构及制作方法、微流体检测装置及使用方法有效
| 申请号： | 201811312659.5 | 申请日： | 2018-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN111135878B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 马啸尘;袁广才;宁策;谷新;胡合合 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B01L3/00 | 分类号： | B01L3/00;G01N35/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 陈俊;陈岚 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 公开了微流体通道结构及其制作方法、微流体检测装置及其使用方法。微流体通道结构包括支撑部；地基部，其布置在支撑部上并且包括相互隔开的第一地基和第二地基；以及通道限定部，其布置在地基部的远离支撑部的一侧并且包括第一通道层和第二通道层，其中第一通道层覆盖第一地基，第二通道层覆盖第二地基，并且第一通道层和第二通道层相互部分隔开以限定微流体通道。第一地基和第二地基具有与支撑部的表面平行的延伸方向，在与延伸方向垂直的平面内，第一地基和第二地基具有在从地基部指向支撑部的方向上渐缩的横截面。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 通道 结构 制作方法 检测 装置 使用方法 | ||
【主权项】：
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