[发明专利]一种适用于共形基底表面镀膜的磁控溅射镀膜装置相对运动机构及其镀膜方法

摘要

适用于共形基底表面镀膜的磁控溅射镀膜装置相对运动机构及其镀膜方法，涉及一种磁控溅射镀膜装置相对运动机构及镀膜方法。目的是解决磁控溅射装置在共形结构表面均匀镀膜难度大的问题。机构由活动样品台和摆动靶头构成；摆动靶头中靶头轨道的槽底部由左端向右端上升的阶梯，相邻阶梯为弧形过渡面；靶头支架的行走轮设置在靶头轨道内。装置中靶头支架沿着靶头轨道的槽底部前后移动过程中会上下摆动，靶头支架同时会带动靶头前后移动和上下摆动，使靶头的朝向发生改变；实现共形基底表面镀膜。装置免去了掩膜板的使用，进而提高了沉积速率，解决共形表面的均匀镀膜问题。本发明适用于共形基底表面镀膜。

主权项

1.一种适用于共形基底表面镀膜的磁控溅射镀膜装置相对运动机构，其特征在于：磁控溅射镀膜装置中适用于共形基底表面镀膜的相对运动机构由活动样品台和摆动靶头构成；所述活动样品台由下部真空室法兰(101)、样品架托板(102)、样品架、主动齿轮(106)、主动齿轮轴(107)、转动电机(108)、转动电机托架(109)、升降杆(110)、升降块(111)、升降螺纹杆(112)和升降电机(113)构成；所述样品架由样品架顶板(103)、样品架底板(104)和数个支撑杆(105)构成；样品架底板(104)为圆盘形，样品架底板(104)的外缘上设置有轮齿；样品架顶板(103)和样品架底板(104)平行设置，支撑杆(105)设置于样品架顶板(103)和样品架底板(104)之间，并且支撑杆(105)上端与样品架顶板(103)固接，支撑杆(105)下端与样品架底板(104)固接；下部真空室法兰(101)为圆盘形，下部真空室法兰(101)中心设置有升降杆通过孔，升降杆通过孔旁设置有主动齿轮轴通过孔；下部真空室法兰(101)水平设置，升降杆(110)竖向设置于升降杆通过孔内；升降块(111)为立方体形，升降块(111)上设置有通孔，升降块(111)上的通孔内设置有内螺纹；升降杆(110)下端固接于升降块(111)上通孔侧部，升降块(111)的通孔内部设置有升降螺纹杆(112)，升降螺纹杆(112)为外螺纹杆，升降螺纹杆(112)的螺纹与升降块(111)上通孔的内螺纹相匹配；升降螺纹杆(112)下端套设有被动齿轮，升降电机(113)的动力输出轴上套设有动力输出齿轮，被动齿轮和动力输出齿轮通过履带连接；升降杆(110)上端固接有水平设置的样品架托板(102)，样品架托板(102)表面设置有环状沟槽(3)，样品架底板(104)下表面设置有与环状沟槽(3)对应的第二环状沟槽，样品架底板(104)设置于样品架托板(102)上方，环状沟槽(3)和第二环状沟槽之间设置有滚珠；转动电机托架(109)水平设置，转动电机托架(109)一端与升降杆(110)中部固接，转动电机托架(109)上表面设置有转动电机(108)，转动电机(108)的动力输出轴与主动齿轮轴(107)下端连接，主动齿轮轴(107)上端穿过主动齿轮轴通过孔设置，主动齿轮轴(107)上端设置有主动齿轮(106)，主动齿轮(106)与样品架底板(104)的外缘上设置的轮齿相啮合；所述摆动靶头由靶头(201)、靶头支架(202)、波纹管(203)、侧部真空室法兰(204)、靶头支撑管(205)、靶头滑座(206)、联轴器(207)、靶头驱动电机(208)、螺纹推杆(209)和靶头轨道(211)构成；侧部真空室法兰(204)竖向设置，侧部真空室法兰(204)中心处设置有靶头支撑管通过孔，靶头支撑管(205)水平设置于靶头支撑管通过孔内；靶头滑座(206)为竖向设置的长方体形，靶头滑座(206)上部与靶头支撑管(205)右端固接，靶头滑座(206)下部设置有水平通孔，螺纹推杆(209)设置于靶头滑座(206)下部的水平通孔内，靶头滑座(206)下部的水平通孔内设置有与螺纹推杆(209)相匹配的内螺纹；螺纹推杆(209)右端连接有联轴器(207)，联轴器(207)设置在靶头驱动电机(208)的动力输出轴上；靶头支撑管(205)左端连接有波纹管(203)，波纹管(203)左端与靶头(201)之间设置有连接管；所述靶头支架(202)上端设置有包箍，包箍套设在波纹管(203)左端与靶头(201)之间的连接管上；靶头支架(202)下端设置有行走轮；靶头轨道(211)为槽形，靶头轨道(211)的槽底部由左端向右端上升的阶梯，相邻阶梯之间为弧形过渡面；行走轮设置在靶头轨道(211)内；所述摆动靶头中螺纹推杆(209)的旋转中心线与活动样品台中升降杆(110)的旋转中心线相互垂直，靶头(201)设置于样品架顶板(103)一侧。