[发明专利]光刻装置、光刻方法、决定方法、存储介质和物品制造方法

摘要

公开了光刻装置、光刻方法、决定方法、存储介质和物品制造方法。本发明提供了包括第一基板和第一基板之后的第二基板的基板上形成图案的光刻装置，该装置包括决定单元，被配置为从不同的多个组合中的每个组合中包括的样本压射区域中的标记的检测值获得第一基板上的多个压射区域的第一布局，其中每个组合由检测单元已经在相对于第一基板的精细对准中检测了标记的样本压射区域中的至少两个样本压射区域构成，以及基于所述第一布局将所述多个组合中的一个中包括的样本压射区域决定为检测单元在相对于第二基板的预对准中检测标记的样本压射区域。

主权项

1.一种光刻装置，其特征在于，所述光刻装置在基板上形成图案，所述基板包括第一基板和所述第一基板之后的第二基板，所述光刻装置包括：检测单元，被配置为检测分别设置在基板上的多个压射区域中的标记；处理单元，被配置为相对于所述基板执行预对准和预对准之后的精细对准；和决定单元，被配置为从不同的多个组合中的每个组合中包括的样本压射区域中的标记的检测值获得第一基板上的多个压射区域的第一布局，其中每个组合由检测单元已经在相对于第一基板的精细对准中检测了标记的样本压射区域中的至少两个样本压射区域构成，以及基于所述第一布局将所述多个组合中的一个组合中包括的样本压射区域决定为检测单元在相对于第二基板的预对准中检测标记的样本压射区域。