[发明专利]一种通过角度沉积薄膜制作尺寸可控纳米通道的方法在审
| 申请号： | 201811326919.4 | 申请日： | 2018-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN111153379A | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 金建;邸思;袁海 | 申请（专利权）人： | 深圳先进技术研究院;广州中国科学院先进技术研究所 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 广州容大专利代理事务所(普通合伙) 44326 | 代理人： | 刘新年;何雪霞 |
| 地址： | 518055 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及微纳加工技术领域，具体公开了一种通过角度沉积薄膜制作尺寸可控纳米通道的方法。本申请首先通过全息光刻技术及湿法刻蚀技术，制作出高深宽比的纳米线条结构模板，接着以该模板为基础，用过纳米压印技术转移纳米线条图案到光刻胶。最后通过角度沉积薄膜的方法实现纳米通道的密封。本申请方法提供的纳米通道制作方法，以全息光刻、湿法刻蚀工艺为基础，采用角度镀膜的方式来实现纳米通道的密封，不仅解决的通道堵塞的问题，同时通过控制镀膜角度，可以获得不同尺寸的通道。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 角度 沉积 薄膜 制作 尺寸 可控 纳米 通道 方法 | ||
【主权项】：
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