[发明专利]反复弯曲装置、其制造方法及弯曲痕迹的抑制方法

摘要

本发明提供一种反复弯曲装置，其在进行反复弯曲时或被置于长期弯曲状态时，在解除弯曲状态后，不易出现弯曲痕迹。即，提供一种反复弯曲装置(10A)，其具备一层或多层的粘着剂层(111)、(112)、(113)，上述粘着剂层的至少一层由下述粘着剂构成：将使粘着剂变形10％时测定的最大的松弛模量值设为最大松弛模量G(t)max(MPa)，从测定到该最大松弛模量G(t)max开始至3757秒后为止持续使粘着剂变形10％，将在此期间测定的最小的松弛模量值设为最小松弛模量G(t)min(MPa)，由以下的公式(I)计算的松弛模量变动值ΔlogG(t)为1.20以下的粘着剂。ΔlogG(t)＝logG(t)max‑logG(t)min…(I)。

主权项

1.一种反复弯曲装置，其具备一层或多层的粘着剂层，其特征在于，所述粘着剂层的至少一层由下述粘着剂构成：以JIS K7244‑1为基准，将使粘着剂变形10％时测定的最大的松弛模量值设为最大松弛模量G(t)_max(MPa)，从测定到该最大松弛模量G(t)_max开始至3757秒后为止持续使所述粘着剂变形10％，将在此期间测定的最小的松弛模量值设为最小松弛模量G(t)_min(MPa)，由以下的公式(I)计算的松弛模量变动值ΔlogG(t)为1.20以下的粘着剂，ΔlogG(t)＝logG(t)_max‑logG(t)_min…(I)。