[发明专利]一种原子层沉积二硫化钨软涂层刀具及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811331570.3 申请日: 2018-11-09
公开(公告)号: CN109161868A 公开(公告)日: 2019-01-08
发明(设计)人: 吴泽;刘磊;邢佑强;黄鹏 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: C23C16/02 分类号: C23C16/02;C23C16/30;C23C16/455
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 曾教伟
地址: 210000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于金属切削工具制造技术领域,涉及一种原子层沉积二硫化钨软涂层刀具及其制备方法。该软涂层刀具结构包括基体和表面二硫化钨软涂层,基体材料为硬质合金刀具材料,表面二硫化钨软涂层是通过原子层沉积的方法获得,涂层材料与基体材料存在部分弱化学键结合,涂层与基体材料的结合强度较高。该原子层沉积二硫化钨软涂层刀具是通过基体材料表面酸腐去钴、钨源和硫源原子层沉积等工艺制备而成。该刀具可广泛应用于难加工金属材料的干式切削加工,原子层沉积可克服传统软涂层与基体结合强度薄弱的弊端,显著提高刀具的润滑使用寿命。
搜索关键词: 原子层沉积 二硫化钨 软涂层刀具 基体材料 软涂层 制备 刀具 硬质合金刀具材料 难加工金属材料 干式切削加工 基体材料表面 金属切削工具 工艺制备 弱化学键 使用寿命 涂层材料 硫源 钨源 应用 制造
【主权项】:
1.一种原子层沉积二硫化钨软涂层刀具,其特征在于:刀具结构包括基体和表面二硫化钨软涂层,基体材料为硬质合金刀具材料,表面二硫化钨软涂层是通过原子层沉积的方法获得,涂层材料与基体材料存在部分弱化学键结合,涂层与基体材料的结合强度较高。
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