[发明专利]优化热分布的碳化硅肖特基二极管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201811332676.5 申请日: 2018-11-09
公开(公告)号: CN109244146A 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 朱袁正;周锦程;杨卓 申请(专利权)人: 无锡新洁能股份有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L21/04
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214131 江苏省无锡市滨湖区高浪东路999号*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及半导体技术领域,具体公开了一种优化热分布的碳化硅肖特基二极管及其制造方法,其中:自下而上依次设置阴极电机、N型碳化硅衬底、N型外延层和阳极电极,所述N型外延层的上表面中部形成电流抑制区,所述电流抑制区中间隔地分布多个第二P型阱区,所述电流抑制区周围的N型外延层上表面间隔地分布多个第一P型阱区,所述第二P型阱区在电流抑制区中的面积占比大于第一P型阱区在芯片去除电流抑制区上的面积占比。本发明通过降低芯片中央的电流密度,明显降低了芯片中央的温度,因此使得芯片温度分布均匀,提高器件的额定电流。
搜索关键词: 电流抑制 肖特基二极管 芯片中央 热分布 上表面 碳化硅 芯片 半导体技术领域 阴极 温度分布均匀 阳极电极 依次设置 中间隔 衬底 去除 优化 制造 电机
【主权项】:
1.一种优化热分布的碳化硅肖特基二极管,其特征在于,所述优化热分布的碳化硅肖特基二极管的元胞结构包括:自下而上依次设置阴极电极(1),N型碳化硅衬底(2),N型外延层(3)和阳极电极(7);所述N型外延层(3)的上表面中部形成电流抑制区(8),所述电流抑制区(8)中间隔地分布多个第二P型阱区(5),相邻两个第二P型阱区(5)之间形成第二N型阱区(6);所述电流抑制区(8)周围的N型外延层(3)上表面间隔地分布多个第一P型阱区(4),相邻两个所述第一P型阱区(4)之间形成第一N型阱区(9)。
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