[发明专利]基于双折射介质超颖表面的多通道矢量全息偏振复用方法有效

专利信息
申请号: 201811338654.X 申请日: 2018-11-12
公开(公告)号: CN109459870B 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 黄玲玲;王涌天;赵睿哲;魏群烁;李晓炜;托马斯·赞特格拉夫;巴苏德·塞恩 申请(专利权)人: 北京理工大学;帕德博恩大学
主分类号: G02F1/01 分类号: G02F1/01;G03H1/26
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开的基于双折射介质超颖表面的多通道矢量全息偏振复用方法,属于微纳光学和全息复用应用技术领域。本发明实现方法如下:用于实现全息偏振复用的超颖表面是由具有矩形截面的不同几何尺寸、不同方位角的纳米柱阵列构成;通过改变纳米柱单元几何尺寸以及方位角,使超颖表面对出射光束的相位和偏振态进行任意地调控;利用GS算法得到不同的相互独立的原图所各自对应的全息图;根据所得全息图,编码确定纳米柱单元的几何尺寸以及方位角,从而生成相应介质超颖表面结构的加工文件;采用电子束刻蚀的微纳加工工艺加工透射型介质超颖表面;通过对入射光束和出射光束偏振态的选择,实现十二个不同偏振通道的七种不同偏振图像组合和复用。
搜索关键词: 基于 双折射 介质 表面 通道 矢量 全息 偏振 方法
【主权项】:
1.基于双折射介质超颖表面的多通道矢量全息偏振复用方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤一:用于实现全息偏振复用的超颖表面是由具有矩形截面的不同几何尺寸、不同方位角的纳米柱阵列构成;通过改变纳米柱单元几何尺寸以及方位角,使超颖表面对出射光束的相位和偏振态进行任意地调控;所述的几何尺寸包括纳米柱的长轴长度L、短轴长度W、高度H以及超颖表面单元的周期P;步骤二:利用GS算法得到txx,txy和tyy三幅原图各自对应的全息图;其中,第三幅全息图与前两幅全息图有确定地相位关系,但能够再现完全不相关的图像信息;根据所得全息图,编码确定纳米柱单元的几何尺寸以及方位角,从而生成相应介质超颖表面结构的加工文件;步骤三:利用步骤二所得介质超颖表面结构的加工文件,通过电子束刻蚀的微纳加工方法,制备透射型介质超颖表面;通过对入射光束和出射光束偏振态的选择,实现十二个不同偏振通道的七种不同偏振图像组合和复用。
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